[发明专利]直接合成酞菁钴晶体的新方法无效

专利信息
申请号: 201110024928.X 申请日: 2011-01-24
公开(公告)号: CN102070642A 公开(公告)日: 2011-05-25
发明(设计)人: 夏道成 申请(专利权)人: 运城学院
主分类号: C07D487/22 分类号: C07D487/22
代理公司: 山西太原科卫专利事务所 14100 代理人: 赵襄元
地址: 044000 *** 国省代码: 山西;14
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摘要: 发明公开了直接合成酞菁钴晶体的新方法,属于有机合成技术领域,涉及用钴盐合成酞菁钴晶体的方法,解决现有酞菁类化合物晶体生长周期长、成功率低和成本高的问题。包括以下步骤:将钴盐和吲哚放入带有聚四氟乙烯内衬的钢弹中,钴盐和吲哚的摩尔比为1:4,加入二甲基甲酰胺,加热反应后,冷却至室温,用甲醇过滤冲洗,即得紫色针状的酞菁钴晶体,分子式为C32H16CoN8。依据本发明方法可直接合成得到酞菁类化合物单晶,满足酞菁类化合物分子结构的表征、参数测量及制备各种光电器件的要求,此方法大大缩短了单晶生长时间,用8小时就可以生长出10.5mm的单晶,同时成功率100%,设备简单,成本低。
搜索关键词: 直接 合成 酞菁钴 晶体 新方法
【主权项】:
一种直接合成酞菁钴晶体的新方法,其特征是包括以下步骤:将钴盐和吲哚放入带有聚四氟乙烯内衬的钢弹中,钴盐和吲哚的摩尔比为1:4,加入二甲基甲酰胺,加热反应后,冷却至室温,用甲醇过滤冲洗,即得紫色针状的酞菁钴晶体,分子式为C32H16CoN8。
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