[发明专利]一种五氧化二铌纳米线的大面积制备方法及其氢敏元件有效

专利信息
申请号: 201110026084.2 申请日: 2011-01-25
公开(公告)号: CN102180518A 公开(公告)日: 2011-09-14
发明(设计)人: 顾豪爽;王钊;胡永民;胡明哲;王威 申请(专利权)人: 湖北大学
主分类号: C01G33/00 分类号: C01G33/00;B82Y40/00;H01L49/00;G01N27/04
代理公司: 武汉金堂专利事务所 42212 代理人: 丁齐旭
地址: 430062 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提出了一种五氧化二铌纳米线的大面积制备方法及其氢敏元件。具体是将裁剪为合适大小的Nb箔片严格清洗后经过弯曲或折叠处理,置于真空管式炉中严格控制热氧化过程的工艺条件(如Ar流量、O2流量、保温温度与时间等),合成出大面积具有较高长径比的Nb2O5纳米线。该方法可实现在有限体积的炉管中大面积合成高长径比的Nb2O5纳米线,从而有效降低生产成本。利用该Nb2O5纳米线作为敏感材料,通过溅射制备Pt电极制作的氢敏元件具有尺寸小、功耗低等特点,在室温下对含氢气氛表现出较快的响应速率和较高的灵敏度,有望降低氢敏传感器的尺寸、功耗和生产成本。
搜索关键词: 一种 氧化 纳米 大面积 制备 方法 及其 元件
【主权项】:
一种用热氧化法大面积制备五氧化二铌纳米线的方法,其特征在于步骤为:一、Nb箔片的裁剪与清洗:1)将纯度>99.99%、厚度0.25~0.35mm的Nb箔片裁剪为长方形;2)先后使用分析纯丙酮、分析纯无水乙醇和去离子水各超声清洗Nb箔片10‑30min,并在40‑60℃下空气中烘干;二、采用热氧化法,在Nb箔片表面氧化生长Nb2O5纳米线。具体流程及工艺条件如下:1)将裁剪和清洗后的Nb箔片平置、或弯曲或折叠后置于真空管式炉的炉管中,保证Nb箔片位于加热区中心位置;2)密封系统并抽真空至管内气压100±10torr,通入纯度>99.999%的高纯Ar气作为保护气体并全程保持,Ar气流量10‑100sccm;3)升温过程:维持Ar气流入,以5‑10℃·min‑1的升温速率升温至700‑900℃;4)保温氧化过程:维持Ar气流入,保温700‑900℃并通入纯度>99.999%的O2气进行氧化,氧化时间30‑120min,O2流量10‑100sccm;5)降温过程:关闭O2气及加热装置,在Ar气保护下自然冷却至室温;三、关闭Ar气并打开进气阀,待腔体内气压恢复至常压后打开密封装置,将样品取出,将样品取出,可获得在原材料Nb箔片上大面积均匀生长的直径为20‑30纳米,长度达10‑50微米的Nb2O5纳米线。
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