[发明专利]光电元件及其制造方法有效
| 申请号： | 201110029465.6 | 申请日： | 2011-01-27 |
| 公开（公告）号： | CN102623580A | 公开（公告）日： | 2012-08-01 |
| 发明（设计）人： | 彭韦智;谢明勋;许明祺;颜伟昱;王俊凯;陈彦志;洪详竣 | 申请（专利权）人： | 晶元光电股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 彭久云 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开一种光电元件及其制造方法，该光电元件包括：基板及位于基板之上的第一过渡叠层，其中第一过渡叠层包括至少一第一过渡层，位于基板之上，且第一过渡层内部具有至少一孔洞结构，及第二过渡层，为非故意掺杂层或未掺杂层，且位于第一过渡层之上。 | ||
| 搜索关键词： | 光电 元件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光电元件，包括：基板；及第一过渡叠层，位于该基板之上，其中该第一过渡叠层包括至少一第一过渡层，位于该基板之上，且该第一过渡层内部具有至少一孔洞结构，及第二过渡层，为非故意掺杂层或未掺杂层，且位于该第一过渡层之上。
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