[发明专利]用于异形陶瓷的新绘彩烧制方法无效
| 申请号： | 201110029741.9 | 申请日： | 2011-01-27 |
| 公开（公告）号： | CN102180652A | 公开（公告）日： | 2011-09-14 |
| 发明（设计）人： | 蔡世山 | 申请（专利权）人： | 上海高诚艺术包装有限公司 |
| 主分类号： | C04B33/34 | 分类号： | C04B33/34;C04B35/64;C04B41/86 |
| 代理公司： | 上海申汇专利代理有限公司 31001 | 代理人： | 翁若莹 |
| 地址： | 201108 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于异形陶瓷的新绘彩烧制方法，依次包括如下步骤：提供还原异形陶瓷胎体；对上述胎体在1250～1350℃下进行第一次烧成，去除胎体中的水气和有机物杂质，增加胎体表面强度；对上述胎体进行打磨使胚体表面光滑后上彩釉，所述彩釉中添加有助熔剂和甘油；对上述胎体在700～900℃下进行第二次烧成，使色料初步附着在胚体表面；对上述胎体上透明釉后在950～1050℃下进行第三次烧成。本发明提供的用于异形陶瓷的新绘彩烧制方法，通过多次烧成并控制烧成温度以及在彩釉中添加助熔剂和甘油，能够在异形陶瓷的表面形成色彩层次丰富带金属浮雕的彩瓷图案，且不会起泡、脱色、开裂。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 异形 陶瓷 新绘彩 烧制 方法 | ||
【主权项】：
一种用于异形陶瓷的新绘彩烧制方法，其特征在于，所述方法依次包括如下步骤：提供还原异形陶瓷胎体；对上述胎体在1250～1350℃下进行第一次烧成，去除胎体中的水气和有机物杂质，增加胎体表面强度；对上述胎体进行打磨使胚体表面光滑后上彩釉，所述彩釉中添加有助熔剂和甘油；对上述胎体在700～900℃下进行第二次烧成，使色料初步附着在胚体表面；对上述胎体上透明釉后在950～1050℃下进行第三次烧成。
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