[发明专利]抛光装置及方法无效
| 申请号： | 201110030539.8 | 申请日： | 2011-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN102615571A | 公开（公告）日： | 2012-08-01 |
| 发明（设计）人： | 邓武锋 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | B24B21/10 | 分类号： | B24B21/10;B24B21/14;B24D11/04;H01L21/304 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 20120*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种抛光装置，包括抛光头和研磨台，还包括：固结磨料抛光带，供给卷轴，拾取卷轴，第一导向部分，第二导向部分。本发明的抛光装置，操作简单，采用不同材质交替排列的FA抛光垫，通过卷轴带动抛光带实现了FA抛光垫的替换和更新，一条抛光带可用于不同批次的抛光工艺，适用于浅槽隔离结构STI，层间介质ILD，Cu，W，高K金属栅极(HKMG)等各种抛光工艺；增强了各种抛光工艺的稳定性，获得更高的WIW，WID，WTW的厚度均匀性，进一步降低工艺成本，提高工艺效率。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种抛光装置，包括抛光头和研磨台，其特征在于，还包括：固结磨料抛光带，为第一材质抛光垫和第二材质抛光垫交替排列的带状结构；供给卷轴和拾取卷轴，分别位于研磨台的两端，所述固结磨料抛光带缠绕于供给卷轴和拾取卷轴上，并在供给卷轴和拾取卷轴的作用下沿研磨台移动。
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