[发明专利]具有改良串行选择线和位线接触布局的三维存储阵列有效
申请号: | 201110031235.3 | 申请日: | 2011-01-25 |
公开(公告)号: | CN102194821A | 公开(公告)日: | 2011-09-21 |
发明(设计)人: | 吕函庭;洪俊雄 | 申请(专利权)人: | 旺宏电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/112 | 分类号: | H01L27/112;H01L27/115;H01L23/52;H01L21/8247;H01L21/768 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 周国城 |
地址: | 中国台湾新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了具有改良串行选择线和位线接触布局的三维存储装置,包含多个长条半导体材料所形成的山脊状叠层且由绝缘层分隔,安排成位线而通过译码电路与感测放大器耦接。长条半导体材料具有侧表面于山脊状叠层的侧面。多条导线安排成字线且与列译码器耦接,正交延伸于于该多个山脊状叠层之上,且与该多个叠层顺形。存储元件位于多层阵列的交会区域,其介于该长条半导体材料侧表面与该多条导线之间。这些存储元件是可编程的,类似反熔丝或是电荷捕捉结构。在某些实施例中,具有阶梯状结构于长条半导体材料的终端。在某些实施例中,包含串行选择线内联机于与长条半导体材料平行的金属层中,且更包含串行选择线内联机于与字线平行的更高金属层中。 | ||
搜索关键词: | 具有 改良 串行 选择 接触 布局 三维 存储 阵列 | ||
【主权项】:
一种存储装置,包含:一集成电路衬底;多个长条半导体材料叠层延伸出该集成电路衬底,该多个叠层包括至少两个长条半导体材料由绝缘层分隔而成为多个平面位置中的不同平面位置,分享该多个平面位置中的一相同平面位置的该些长条半导体材料通过阶梯状结构连接至多个位线接触中的一个相同位线接触,如此该阶梯状结构中的阶梯位于该些长条半导体材料的端点处;多条导线安排成正交于该多个叠层之上,且与该多个叠层顺形,如此于该长条半导体材料的表面与该多条导线交会点建立一个三维阵列的交会区域;以及存储元件于该交会区域,其经由该长条半导体材料与该多条导线建立可存取的该三维阵列的存储单元。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于旺宏电子股份有限公司,未经旺宏电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110031235.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的