[发明专利]一种物理空间交错式抗单粒子临近效应的静态存储单元有效

专利信息
申请号: 201110031829.4 申请日: 2011-01-28
公开(公告)号: CN102176322A 公开(公告)日: 2011-09-07
发明(设计)人: 谢成民;王忠芳;李如美;吴龙胜;刘佑宝 申请(专利权)人: 中国航天科技集团公司第九研究院第七七一研究所
主分类号: G11C11/412 分类号: G11C11/412
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 陆万寿
地址: 710054 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种物理空间交错式抗单粒子临近效应的静态存储单元,包括A存储单元晶体管和B存储单元晶体管,A存储单元晶体管由设置于硅衬底上的A存储单元第一访问晶体管AMG1、A存储单元第二访问晶体管AMG2、A存储单元第一上拉晶体管AMP1、A存储单元第二上拉晶体管AMP2、A存储单元第一下拉晶体管AMN1和A存储单元第二下拉晶体管AMN2构成;B存储单元晶体管还由设置于硅衬底上的B单元第一访问晶体管BMG1、B单元第二访问晶体管BMG2、B单元第一上拉晶体管BMP1、B单元第二上拉晶体管BMP2、B单元第一下拉晶体管BMN1和B单元第二下拉晶体管BMN2构成。采用本发明可有效降低临近效应,从而增大存储单元SEU的临界电荷,提高抗单粒子性能。
搜索关键词: 一种 物理 空间 交错 式抗单 粒子 临近 效应 静态 存储 单元
【主权项】:
物理空间交错式抗单粒子临近效应的静态存储单元,包括A存储单元晶体管和B存储单元晶体管,其特征在于:A存储单元晶体管由设置于硅衬底上的A存储单元第一访问晶体管AMG1、A存储单元第二访问晶体管AMG2、A存储单元第一上拉晶体管AMP1、A存储单元第二上拉晶体管AMP2、A存储单元第一下拉晶体管AMN1和A存储单元第二下拉晶体管AMN2构成;B存储单元晶体管还由设置于硅衬底上的B单元第一访问晶体管BMG1、B单元第二访问晶体管BMG2、B单元第一上拉晶体管BMP1、B单元第二上拉晶体管BMP2、B单元第一下拉晶体管BMN1和B单元第二下拉晶体管BMN2构成。
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