[发明专利]光学关键尺寸检测设备中用户自定义轮廓的方法有效
申请号: | 201110032938.8 | 申请日: | 2011-01-30 |
公开(公告)号: | CN102141377A | 公开(公告)日: | 2011-08-03 |
发明(设计)人: | 施耀明;刘国祥;张振生;刘志钧;徐益平 | 申请(专利权)人: | 睿励科学仪器(上海)有限公司 |
主分类号: | G01B11/00 | 分类号: | G01B11/00;G01B11/24 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 郑立柱 |
地址: | 201203 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 目前用户使用光学关键尺寸(OCD)检测设备时,需要将新的轮廓告知光学关键尺寸检测设备商制成轮廓模板后才能进行光谱计算,时间周期长、保密性差。本发明提供了在光学关键尺寸检测设备中用户自定义轮廓的方法,其中建立轮廓模板的方法包括如下步骤:ii.获取至少两个控制点和基准点的位置信息;iii.获取至少一对所述控制点之间的连线的几何规律;所述控制点和基准点的位置信息和连线的几何规律作为所述轮廓模板的数据,相应几何规律的所述连线用于连接位于相应位置的所述控制点,以形成作为所述轮廓模板的图形。通过使用本发明提供的方案,用户可以自定义轮廓,不必将其轮廓信息告知光学关键尺寸检测设备商,缩短了时间,保密性好。 | ||
搜索关键词: | 光学 关键 尺寸 检测 设备 用户 自定义 轮廓 方法 | ||
【主权项】:
一种在光学关键尺寸检测设备中用于自定义轮廓模板的方法,包括如下步骤:ii.获取至少两个控制点以及基准点的位置信息;iii.获取至少一对所述控制点之间的连线的几何规律;所述控制点和基准点的位置信息和连线的几何规律作为所述轮廓模板的数据,相应几何规律的所述连线用于连接位于相应位置的所述控制点,以形成作为所述轮廓模板的图形。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于睿励科学仪器(上海)有限公司,未经睿励科学仪器(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110032938.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。