[发明专利]光学关键尺寸检测设备中用户自定义轮廓的方法有效

专利信息
申请号: 201110032938.8 申请日: 2011-01-30
公开(公告)号: CN102141377A 公开(公告)日: 2011-08-03
发明(设计)人: 施耀明;刘国祥;张振生;刘志钧;徐益平 申请(专利权)人: 睿励科学仪器(上海)有限公司
主分类号: G01B11/00 分类号: G01B11/00;G01B11/24
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 郑立柱
地址: 201203 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 目前用户使用光学关键尺寸(OCD)检测设备时,需要将新的轮廓告知光学关键尺寸检测设备商制成轮廓模板后才能进行光谱计算,时间周期长、保密性差。本发明提供了在光学关键尺寸检测设备中用户自定义轮廓的方法,其中建立轮廓模板的方法包括如下步骤:ii.获取至少两个控制点和基准点的位置信息;iii.获取至少一对所述控制点之间的连线的几何规律;所述控制点和基准点的位置信息和连线的几何规律作为所述轮廓模板的数据,相应几何规律的所述连线用于连接位于相应位置的所述控制点,以形成作为所述轮廓模板的图形。通过使用本发明提供的方案,用户可以自定义轮廓,不必将其轮廓信息告知光学关键尺寸检测设备商,缩短了时间,保密性好。
搜索关键词: 光学 关键 尺寸 检测 设备 用户 自定义 轮廓 方法
【主权项】:
一种在光学关键尺寸检测设备中用于自定义轮廓模板的方法,包括如下步骤:ii.获取至少两个控制点以及基准点的位置信息;iii.获取至少一对所述控制点之间的连线的几何规律;所述控制点和基准点的位置信息和连线的几何规律作为所述轮廓模板的数据,相应几何规律的所述连线用于连接位于相应位置的所述控制点,以形成作为所述轮廓模板的图形。
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