[发明专利]一种硅基纳米线太阳电池的制备方法有效

专利信息
申请号: 201110033027.7 申请日: 2011-01-31
公开(公告)号: CN102157617A 公开(公告)日: 2011-08-17
发明(设计)人: 丁建宁;袁宁一 申请(专利权)人: 常州大学
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;C23C16/44;C23C16/40;C23C16/42
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 楼高潮
地址: 213164 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种硅基纳米线太阳电池的制备方法,特指利用纳米硅、氧化铝和氧化锌纳米线制备氧化锌/纳米硅nip/氧化铝或氧化锌/纳米硅nip/纳米硅nip/氧化铝结构的纳米线太阳电池,属于太阳能电池器件制备技术领域。本发明首先在金属衬底或透明导电膜上生长掺杂氧化锌(AZO)纳米线,再利用PECVD方法在AZO纳米线上制备纳米硅层,不同于目前报道的纳米线电池从内至外采用的p-n或pin径向结构,而是形成nip结构或nipnip叠层结构径向纳米线太阳电池;利用原子层沉积(ALD)技术在P型纳米硅层上制备氧化铝(Al2O3)钝化层;利用原子层沉积技术制备制备透明导电薄膜,改善纳米线的电极接触性能,本发明能有效提高了太阳电池的转换效率。
搜索关键词: 一种 纳米 太阳电池 制备 方法
【主权项】:
一种硅基纳米线太阳电池的制备方法,其特征在于:利用化学方法在金属衬底或导电玻璃上首先制备氧化锌纳米线,再采用PECVD方法在氧化锌纳米线上制备氢化纳米硅(nc‑Si:H)薄膜,形成nip或nipnip径向结构,随后利用ALD技术制备氧化铝钝化层,利用ALD技术制备氧化锌透明导电薄膜,完成纳米线太阳电池的制备。
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