[发明专利]一种硅基纳米线太阳电池的制备方法有效
申请号: | 201110033027.7 | 申请日: | 2011-01-31 |
公开(公告)号: | CN102157617A | 公开(公告)日: | 2011-08-17 |
发明(设计)人: | 丁建宁;袁宁一 | 申请(专利权)人: | 常州大学 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;C23C16/44;C23C16/40;C23C16/42 |
代理公司: | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人: | 楼高潮 |
地址: | 213164 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及一种硅基纳米线太阳电池的制备方法,特指利用纳米硅、氧化铝和氧化锌纳米线制备氧化锌/纳米硅nip/氧化铝或氧化锌/纳米硅nip/纳米硅nip/氧化铝结构的纳米线太阳电池,属于太阳能电池器件制备技术领域。本发明首先在金属衬底或透明导电膜上生长掺杂氧化锌(AZO)纳米线,再利用PECVD方法在AZO纳米线上制备纳米硅层,不同于目前报道的纳米线电池从内至外采用的p-n或pin径向结构,而是形成nip结构或nipnip叠层结构径向纳米线太阳电池;利用原子层沉积(ALD)技术在P型纳米硅层上制备氧化铝(Al2O3)钝化层;利用原子层沉积技术制备制备透明导电薄膜,改善纳米线的电极接触性能,本发明能有效提高了太阳电池的转换效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 纳米 太阳电池 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种硅基纳米线太阳电池的制备方法,其特征在于:利用化学方法在金属衬底或导电玻璃上首先制备氧化锌纳米线,再采用PECVD方法在氧化锌纳米线上制备氢化纳米硅(nc‑Si:H)薄膜,形成nip或nipnip径向结构,随后利用ALD技术制备氧化铝钝化层,利用ALD技术制备氧化锌透明导电薄膜,完成纳米线太阳电池的制备。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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