[发明专利]一种真空纳米技术涂膜设备无效
| 申请号： | 201110033625.4 | 申请日： | 2011-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN102601014A | 公开（公告）日： | 2012-07-25 |
| 发明（设计）人： | 刘芝庆 | 申请（专利权）人： | 刘芝庆 |
| 主分类号： | B05C3/09 | 分类号： | B05C3/09;B05C9/14;B05C11/11 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 528200 广东省佛山*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种真空纳米技术涂膜设备，包括机箱、加热炉、沉积桶和承托架组成，所述的加热炉、沉积桶和承托架用金属管连接，在所连接接口处设置有连接法兰并用扣环固定，其特征在于所述的沉积桶连接设置有微型电机，所述的微型电机采用伞齿轮连接沉积桶，在松开扣环后进行90度转换使其实现横向加工和立向加工的功能。采用伞齿轮传动，使沉积桶的传动空间更少，方便了沉积桶实现横向和立向加工的转换。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空 纳米技术 设备 | ||
【主权项】：
一种真空纳米技术涂膜设备，包括机箱、加热炉、沉积桶和承托架组成，所述的加热炉、沉积桶和承托架用金属管连接，在所连接接口处设置有连接法兰并用扣环固定，其特征在于所述的沉积桶连接设置有微型电机，所述的微型电机采用伞齿轮连接沉积桶，在松开扣环后进行90度转换使其实现横向加工和立向加工。
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