[发明专利]n沟道晶体管及反相器电路有效
申请号: | 201110034838.9 | 申请日: | 2011-01-30 |
公开(公告)号: | CN102163620A | 公开(公告)日: | 2011-08-24 |
发明(设计)人: | 麦西亚斯·派斯雷克 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L29/49;H01L29/06 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 张浴月;刘文意 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明关于一种n沟道晶体管及反相器电路。在一实施例中,n沟道晶体管包括一分立空穴能阶(H0)的第一半导体层:具有一导电带最小值(EC2)的第二半导体层;设置于第一和第二半导体层之间的宽能隙半导体阻障层;设置于第一半导体层之上的栅极介电层;以及一设置于栅极介电层上且具有有效功函数的栅极金属层,其中为了施予栅极金属层零偏压并获得n端特性,选择有效功函数的栅极金属层使分立空穴能阶(H0)低于传导带最小值(Ec2)。本发明在高性能、低操作功率、以及低备用电源下可有利于运用,并在任何运用一或多个晶体管的电子装置及/或电路中可善加使用。 | ||
搜索关键词: | 沟道 晶体管 反相器 电路 | ||
【主权项】:
一种n沟道晶体管,包括:一第一半导体层,具有一分立空穴能阶(H0);一第二半导体层,具有一导电带最小值(EC2);一宽能带间隙半导体阻障层,置于该第一及该第二半导体层之间;一栅极介电层,置于该第一半导体层之上;以及一栅极金属层,置于该栅极介电层之上,且具有一有效功函数,其中为了施予栅极金属层零偏压,该有效功函数经选择,使该分立空穴能阶(H0)低于该传导带最小值(Ec2)。
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