[发明专利]利用缝隙腐蚀成形金属纳米结构的制作方法无效
| 申请号： | 201110036479.0 | 申请日： | 2011-02-12 |
| 公开（公告）号： | CN102134055A | 公开（公告）日： | 2011-07-27 |
| 发明（设计）人： | 杜春雷;董小春;史立芳;邓启凌 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | B82B3/00 | 分类号： | B82B3/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人： | 成金玉;贾玉忠 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 利用缝隙腐蚀成形金属纳米结构的制作方法，步骤为：选择基片材料；在基片材料表面蒸镀一层金属膜层；金属膜层表面旋涂一层光刻胶；选择光刻掩模，并对样品进行曝光；将样片放入显影液内显影，使光刻胶图形化，同时在显影液的浸泡下，使光刻胶结构边缘与金属膜之间形成缝隙；将图形化的光刻胶结构放入高温烘箱进行烘焙；将上述样片放入金属腐蚀液里腐蚀，即可在光刻胶与金属膜的缝隙处产生缝隙腐蚀，当缝隙内外金属无连接时，将样片从腐蚀液内取出并用去离子水冲洗干净；洗去样片上的光刻胶结构，在金属上得到与缝隙边缘一致的20-80nm的金属纳米结构。本发明具有可实现大面积、任意线条图形的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 缝隙 腐蚀 成形 金属 纳米 结构 制作方法 | ||
【主权项】：
利用缝隙腐蚀成形金属纳米结构的制作方法，其特征在于步骤如下：(1)根据需要选择基片材料；(2)在基片材料表面蒸镀一层金属膜层；(3)在所述的金属膜层表面旋涂一层光刻胶，形成样片；(4)根据所需要的金属纳米线条分布情况选择光刻掩模，并用紫外曝光机对光刻胶样品进行曝光；(5)将曝光后的样片放入显影液内显影，使光刻胶图形化，同时在显影液的浸泡下，使光刻胶结构边缘与金属膜之间形成缝隙；(6)将图形化的光刻胶结构放入高温烘箱进行烘焙，使所述的缝隙固定；(7)将上述样片放入金属腐蚀液里腐蚀，即可在光刻胶与金属膜的缝隙处产生缝隙腐蚀，当缝隙内外金属无连接时，将样片从腐蚀液内取出并用去离子水冲洗干净；(8)洗去样片上的光刻胶结构，即在金属上得到与缝隙边缘一致的20‑80nm的金属纳米结构。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院光电技术研究所，未经中国科学院光电技术研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201110036479.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
