[发明专利]一种减少快速热退火处理装置内腔的颗粒产生的方法有效
申请号: | 201110037104.6 | 申请日: | 2011-01-27 |
公开(公告)号: | CN102618934A | 公开(公告)日: | 2012-08-01 |
发明(设计)人: | 过钰良 | 申请(专利权)人: | 无锡华润上华半导体有限公司;无锡华润上华科技有限公司 |
主分类号: | C30B33/02 | 分类号: | C30B33/02 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 李湘;高为 |
地址: | 214028 江苏省无*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明提供一种减少快速热退火处理(Rapid Thermal Processing,RTP)装置内腔的颗粒产生的方法,属于快速热退火处理技术领域。该减少RTP装置内腔的颗粒产生的方法中,所述RTP装置为接触旋转式加热的装置,其包括硅片承载台、对所述硅片承载实现旋转支撑的轴承,所述轴承包括上圈、下圈以及嵌置于所述上圈和下圈之间的滚珠;其中,在所述轴承的滚珠之间置入润滑剂。该方法相对简单、成本低,并有利于降低RTP装置的维护成本并提高产能。 | ||
搜索关键词: | 一种 减少 快速 退火 处理 装置 颗粒 产生 方法 | ||
【主权项】:
一种减少快速热退火处理装置内腔的颗粒产生的方法,所述快速热退火处理装置为接触旋转式加热的装置,其包括硅片承载台、对所述硅片承载实现旋转支撑的轴承,所述轴承包括上圈、下圈以及嵌置于所述上圈和下圈之间的滚珠;其特征在于,在所述轴承的滚珠之间置入润滑剂。
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