[发明专利]一种纳米镜面喷镀方法在审
申请号: | 201110037243.9 | 申请日: | 2011-02-14 |
公开(公告)号: | CN102127760A | 公开(公告)日: | 2011-07-20 |
发明(设计)人: | 刘洋 | 申请(专利权)人: | 刘洋 |
主分类号: | C23C18/44 | 分类号: | C23C18/44;C23C18/18;B05D5/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 250014 山东省汶*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明公开了一种纳米镜面喷镀方法,包括以下步骤:A1、底漆喷涂:洗净素材上的油污,喷涂底漆,其中底漆按照如下比例调配:主剂∶硬化剂∶稀释剂=50∶10∶30-50;底漆膜厚:15μm-30μm;A2、使用喷枪进行纯水洗净:底漆喷涂后,使用纯水将素材表面的灰尘洗净,所用纯水的纯度:导电率小于0.1μs/cm;A3、表面调整:将表面调整液喷涂于素材上;A4、镜化反应喷涂:将镜化反应剂和还原剂用喷头同时向素材进行喷涂;A5、纯水洗净;A6、硬化漆喷涂。 | ||
搜索关键词: | 一种 纳米 镜面喷镀 方法 | ||
【主权项】:
一种纳米镜面喷镀方法,其特征在于,包括以下步骤:A1,底漆喷涂:洗净素材上的油污,喷涂底漆,其中底漆按照如下比例调配:主剂∶硬化剂∶稀释剂=50∶10∶30‑50;底漆膜厚:15u‑30u;A2,使用喷枪进行纯水洗净:底漆喷涂后,使用纯水将素材表面的灰尘洗净,纯水的纯度:导电率小于0.1us/cm;A3,表面调整:将表面调整液喷涂于素材上;A4,镜化反应喷涂:将镜化反应剂和还原剂用喷头同时向素材进行喷涂;A5,纯水洗净;A6,硬化漆喷涂。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
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