[发明专利]挥发性的咪唑类和咪唑基II族金属前体有效

专利信息
申请号: 201110038355.6 申请日: 2011-02-09
公开(公告)号: CN102344413A 公开(公告)日: 2012-02-08
发明(设计)人: J·A·T·诺曼;M·K·佩里兹;金武性 申请(专利权)人: 气体产品与化学公司
主分类号: C07D233/58 分类号: C07D233/58;C07F3/02;C07F3/04;C07F3/00;C23C16/34;C23C16/40;C09K11/06
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 吴亦华;尚继栋
地址: 美国宾夕*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明涉及挥发性的咪唑类和咪唑基II族金属前体。描述了立体位阻的咪唑配体以及它们的合成,所述咪唑配体能够以eta-5配位模式与II族金属(诸如钙、镁、锶)配位,这允许形成单体或二聚体挥发性络合物。一种包含与选自钡、锶、镁、镭或钙或其混合物的金属配位的一个或多个多取代的咪唑基配体阴离子的化合物。或者,一个阴离子可以被第二非咪唑基配体阴离子取代。本发明也涉及新化合物的合成及其用于形成BST膜的用途。
搜索关键词: 挥发性 咪唑 ii 金属
【主权项】:
1.下式的多烷基化的咪唑:其中,R1、R2和R3各自单独地为选自以下的大体积基团:C1-C10伯、仲或叔烷基;C1-C10伯、仲或叔烷氧基;C1-C10伯、仲或叔烷基胺;用杂原子取代的环结构官能化的C1-C10伯、仲或叔烷基;用酰胺基团官能化的C1-C10烷基;用酯基官能化的C1-C10伯、仲或叔烷基;及其混合物。
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