[发明专利]多层复合敏感膜光纤氢气传感探头及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201110038891.6 申请日: 2011-02-16
公开(公告)号: CN102175619A 公开(公告)日: 2011-09-07
发明(设计)人: 杨明红;代吉祥;程芸 申请(专利权)人: 武汉理工大学
主分类号: G01N21/17 分类号: G01N21/17;C23C14/35;C23C14/08;C23C14/14
代理公司: 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 代理人: 张安国
地址: 430070 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 一种多层复合敏感膜光纤氢气传感探头及其制作方法。该探头由镀有氢气敏感薄膜(10)的D型光纤光栅(6)与具有同样中心波长、但没有镀膜的参考光栅(5)对接熔接构成;所述的镀有氢气敏感薄膜(10)的D型光纤光栅(6),由经过侧边抛磨处理的光纤光栅上采用磁控溅射镀SiO2薄膜(13)、再镀SiO2和Pd的混合膜(14)、然后再镀Pd薄膜(15)构成;所述的SiO2薄膜厚度为1-100nm,SiO2和Pd的混合膜厚度为1-100nm,Pd薄膜厚度为10nm-20μm。其制法是将对氢气敏感的薄膜与抗电磁干扰D型光纤光栅结合起来形成光纤氢气传感器探头。采用磁控溅射、热处理和温度补偿技术,使传感器的准确性和灵敏度得到极大地提高,并且传感探头体积大大减小,有利于实现光纤氢气传感器的微型化。
搜索关键词: 多层 复合 敏感 光纤 氢气 传感 探头 及其 制作方法
【主权项】:
一种多层复合敏感膜光纤氢气传感探头,其特征在于,该探头由镀有氢气敏感薄膜(10)的D型光纤光栅(6)与具有同样中心波长、但没有镀膜的参考光栅(5)对接熔接构成;所述的镀有氢气敏感薄膜(10)的D型光纤光栅(6),由经过侧边抛磨处理的光纤光栅上采用磁控溅射镀SiO2薄膜(13)、再镀SiO2和Pd的混合膜(14)、然后再镀Pd薄膜(15)构成;所述的SiO2薄膜(13)的厚度为1‑100nm,所述的SiO2和Pd的混合膜(14)的厚度为1‑100nm,所述的Pd薄膜(15)的厚度为10nm‑20μm。
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