[发明专利]涂覆-显影装置和显影方法有效
| 申请号： | 201110039003.2 | 申请日： | 2011-02-15 |
| 公开（公告）号： | CN102193342A | 公开（公告）日： | 2011-09-21 |
| 发明（设计）人： | 滝口靖史;山本太郎;有马裕;吉原孝介;吉田勇一 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种在基板整个表面形成均匀性高的显影液的液膜并且得到高的生产率的涂覆-显影装置和显影方法。涂覆-显影装置包括：显影组件；清洗组件；向上述清洗组件输送由上述显影组件进行了显影的基板的输送机构，上述显影组件包括：形成处理气氛的气密的处理容器；设于该处理容器内、用于载置并冷却基板的调温板；向上述处理容器内供给含有显影液的雾的气氛气体的蒸气供给部；用于将上述调温板调整成上述蒸气在基板上结露的温度的温度调整部。因为显影组件和清洗组件能并行地进行处理，所以得到高的生产率。 | ||
| 搜索关键词： | 涂覆 显影 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种涂覆‑显影装置，在基板上形成抗蚀剂膜，对被曝光了的基板进行显影，其特征在于，包括：显影组件；清洗组件；向上述清洗组件输送由上述显影组件进行了显影的基板的输送机构，上述显影组件包括：形成处理气氛的气密的处理容器；设于该处理容器内、用于载置并冷却基板的调温板；向上述处理容器内的基板的表面供给显影液的雾的气氛气体供给部，上述清洗组件包括：用于载置基板的载置部；向载置在该载置部上的基板供给清洗液的清洗液供给部。
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