[发明专利]显影装置和显影方法有效
申请号: | 201110039010.2 | 申请日: | 2011-02-15 |
公开(公告)号: | CN102193343A | 公开(公告)日: | 2011-09-21 |
发明(设计)人: | 滝口靖史;山本太郎;有马裕;吉原孝介;吉田勇一 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | G03F7/30 | 分类号: | G03F7/30;H01L21/00 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种能够抑制显影液的使用量且快速地在基板的整个表面上形成显影液的液膜的显影装置和显影方法。该显影装置包括:气密的处理容器,其用于形成处理气氛;调温板,其设在上述处理容器内,用于载置基板;气氛气体供给部,其用于向上述处理容器内供给包含雾沫和蒸气的气氛气体;第1温度调整部,其用于将上述调温板的温度调整为上述显影液蒸气在基板上结露的温度,其中,上述处理容器的内壁的温度被维持为上述显影液蒸气难以在该内壁上结露的温度。 | ||
搜索关键词: | 显影 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种显影装置,该显影装置是对已曝光的基板进行显影的显影装置,其特征在于,包括:气密的处理容器,其用于形成处理气氛;调温板,其设在上述处理容器内,用于载置基板;气氛气体供给部,其用于向上述处理容器内的基板的表面供给包含显影液雾沫和显影液蒸气的气氛气体;第1温度调整部,其用于将上述调温板的温度调整为上述气氛气体在基板上结露的温度,上述处理容器的内壁的温度被维持为上述气氛气体难以在该内壁上结露的温度。
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