[发明专利]抛光头有效

专利信息
申请号: 201110039266.3 申请日: 2011-02-16
公开(公告)号: CN102172887A 公开(公告)日: 2011-09-07
发明(设计)人: 路新春;王同庆;何永勇;雒建斌 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: B24B39/06 分类号: B24B39/06
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 宋合成
地址: 100084 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种抛光头,所述抛光头包括盖板;主隔膜,所述主隔膜为环形且具有弹性,所述主隔膜固定在所述盖板的下表面上;基座,所述基座固定在所述主隔膜的下表面上;柔性膜,所述柔性膜固定在所述基座的下表面上,其中柔性膜与所述基座限定出与外界连通的下腔室;和保持环,所述保持环固定在所述基座的下表面上,所述保持环的径向截面的面积沿从下向上逐渐减小。根据本发明实施例的抛光头不仅可以防止晶圆在化学机械抛光过程中被甩出,而且可以获得均匀的、一致的抛光效果。此外,由于所述保持环的磨损不会降低抛光效果,因此所述保持环可以具有更长的使用寿命,从而降低了抛光成本。
搜索关键词: 抛光
【主权项】:
一种抛光头,其特征在于,包括:盖板;主隔膜,所述主隔膜为环形且具有弹性,所述主隔膜固定在所述盖板的下表面上;基座,所述基座固定在所述主隔膜的下表面上;柔性膜,所述柔性膜固定在所述基座的下表面上,其中柔性膜与所述基座限定出与外界连通的下腔室;和保持环,所述保持环固定在所述基座的下表面上,所述保持环的径向截面的面积沿从下向上逐渐减小。
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