[发明专利]曝光参数补正方法及成像装置有效

专利信息
申请号: 201110040204.4 申请日: 2011-02-16
公开(公告)号: CN102645816A 公开(公告)日: 2012-08-22
发明(设计)人: 陈泰宏;蔡亦雯;李宜坚 申请(专利权)人: 佳能企业股份有限公司
主分类号: G03B7/08 分类号: G03B7/08;H04N5/235
代理公司: 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 代理人: 寿宁;张华辉
地址: 中国台湾台北市*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明是有关于一种曝光参数补正方法及成像装置,根据第一感光度及预设时间,分别藉由第一曝光时间及第二曝光时间执行撷取模式的影像撷取步骤,以得到第一影像及第二影像。将第一影像及第二影像进行影像运算,以得到差分影像。以第二感光度替换第一感光度,并记录第二感光度。
搜索关键词: 曝光 参数 补正 方法 成像 装置
【主权项】:
一种曝光参数补正方法,其特征在于其包含以下步骤:根据一第一感光度及一预设时间,分别藉由一第一曝光时间及一第二曝光时间执行一撷取模式的一影像撷取步骤,以得到一第一影像及一第二影像;将该第一影像及该第二影像进行一影像运算,以得到一差分影像;及以一第二感光度取代该第一感光度,并记录该第二感光度。
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