[发明专利]质谱仪有效
申请号: | 201110041262.9 | 申请日: | 2011-02-18 |
公开(公告)号: | CN102194642A | 公开(公告)日: | 2011-09-21 |
发明(设计)人: | 池上将弘;原田高宏 | 申请(专利权)人: | 株式会社岛津制作所 |
主分类号: | H01J49/16 | 分类号: | H01J49/16;H01J49/26;G01N27/62 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及质谱仪。当试样板(3)安置在试样台(2)上时,照射痕迹形成控制器(22)适当移动试样台,并且投射高功率激光束的短脉冲以在试样板的预定位置产生照射痕迹。该照射痕迹具有独有的形状。获取照射痕迹的显微图像并将该显微图像保存在图像存储部(32)中。在将试样板从台(2)临时取出以对试样施加基质之后,将试样板再次安置在试样台上。然后,根据拍摄于该时间点的图像和先前存储在图像存储部(32)中的图像之间照射痕迹的位置的差来计算试样板相对于其原始位置的位移。基于该计算结果,分析位置校正器(24)修正操作员选择的区域的位置信息。因而,可以精确地检测再次安置的试样板的位移。无需使用为了创建位移检测用标记而预先处理过的特殊的试样板。 | ||
搜索关键词: | 质谱仪 | ||
【主权项】:
一种质谱仪,其包括能够安置可拆装的试样板的设备本体和利用基质辅助激光解吸电离法使试样离子化的离子源,所述基质辅助激光解吸电离法包括以下的一系列步骤:对从所述设备本体取出的试样板上持有的试样施加基质,将试样板安置在所述设备本体中,并且使来自激光照射单元的激光束投射到施加有基质的试样上以使该试样离子化,所述质谱仪还包括:a)照射痕迹形成部件,用于当试样板被安置在所述设备本体中时,通过使来自所述激光照射单元的激光束投射到该试样板的预定位置来在该试样板上形成照射痕迹,其中,该激光束的能量比使试样离子化的处理所使用的激光束的能量高;b)参考图像获取部件,用于在载有未施加基质的试样且形成有照射痕迹的试样板被安置在所述设备本体中时,获取包括该试样板上的照射痕迹的显微图像,并且保存所获取到的图像作为参考图像;c)位移检测部件,用于基于从所述参考图像和以下的包括试样板上的照射痕迹的显微图像这两者观察到的照射痕迹的位置的变化,来计算该试样板在被再次安置在所述设备本体中时发生的位移的大小和方向,其中,该包括试样板上的照射痕迹的显微图像是在该试样板在载有施加了基质的试样的情况下被安置在所述设备本体中时获得的;以及d)位移校正部件,用于在对试样的分析区域进行质谱分析之前,改变来自所述激光照射单元的激光束和该试样之间的相对位置,以消除由所述位移检测部件计算出的位移,其中,所述分析区域是参考在获取所述参考图像的同时获取到的该试样的显微图像所选择的。
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