[发明专利]检测光学微影光罩的方法及系统与装置有效
| 申请号： | 201110044064.8 | 申请日： | 2011-02-22 |
| 公开（公告）号： | CN102385649A | 公开（公告）日： | 2012-03-21 |
| 发明（设计）人： | 王淼鑫;赖建宏;涂志强;林佳仕;张宗裕 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50;G03F1/84;G06T7/00 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 陈红 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种检测光学微影光罩的方法及系统与装置，其中接收到一设计数据库，并通过一偏向因子(Bias Factor)来调整此设计数据库的一图形，以产生被偏置的数据库(Biased Database)。对此被偏置的数据库进行影像显示(Image Rendering)，以产生被偏置的影像。亦使用此设计数据库来产生一光罩，而此光罩被造影产生一光罩影像。比较被偏置的影像与光罩影像，而可基于此比较来决定此偏向因子的一新数值。 | ||
| 搜索关键词： | 检测 光学 微影光罩 方法 系统 装置 | ||
【主权项】：
一种检测光学微影光罩的方法，其特征在于，包含：接收一第一设计数据库；通过一偏向因子来调整该第一设计数据库的一图形，以产生一第一被偏置的数据库；对该第一被偏置的数据库进行影像显示，以产生一第一被显示的数据库影像；接收一第一光罩影像；比较该第一被显示的数据库影像与该第一光罩影像，其中该比较步骤的一结果指出该第一被显示的数据库影像与该第一光罩影像间的一相配程度；以及基于该比较步骤来决定该偏向因子的一新数值。
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