[发明专利]一种光致可逆自修复聚氨酯薄膜及其制备和修复方法

摘要

本发明涉及一种光致可逆自修复聚氨酯薄膜及其制备方法和修复方法。该聚氨酯薄膜主要包括10-40份酚羟基香豆素衍生物，10-50份烷基溴醇化合物，10-40份多异氰酸酯，10-30份聚醚多元醇或聚酯多元醇。制备方法是：在无水碳酸钾的作用下，酚羟基香豆素衍生物与烷基溴醇化合物生成醇羟基香豆素；再将醇羟基香豆素与多异氰酸酯及聚醚或聚酯多元醇反应，得聚氨酯溶液，成膜后经350nm紫外光照射交联，制得聚氨酯薄膜。通过254-350nm紫外光辐照受损面，使还原的香豆素单体再次发生二聚交联反应，达到裂纹修复的目的。相对于现有技术，本发明不但具有成膜性能好，透明度高的特点；而且修复工艺简单成本低廉。

主权项

一种光致可逆自修复聚氨酯薄膜，其特征在于，该聚氨酯薄膜按重量份数算，主要包括以下组分：酚羟基香豆素衍生物               10‑40份烷基溴醇化合物                   10‑50份多异氰酸酯                       10‑40份聚醚多元醇或聚酯多元醇           10‑30份。