[发明专利]一种In-Se基热电材料的制备方法有效

专利信息
申请号: 201110046031.7 申请日: 2011-02-25
公开(公告)号: CN102154692A 公开(公告)日: 2011-08-17
发明(设计)人: 蒋俊;张秋实;张婷;李炜;许高杰 申请(专利权)人: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
主分类号: C30B28/08 分类号: C30B28/08
代理公司: 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 代理人: 陈英俊
地址: 315201 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种In-Se基热电材料的制备方法,该方法首先采用熔炼法合成In-Se材料,得到元素分布均匀的In-Se化合物,然后采用区熔生长法,通过优化熔融温度、熔区宽度、生长速度等工艺参数,制备具有良好晶粒取向性的In-Se基大块多晶材料。与现有的熔炼、球磨结合热压或放电等离子烧结制备工艺相比,本发明的制备方法能够得到晶粒取向性好、热电性能高的In-Se基热电材料,同时能够缩短制备时间、降低能耗。
搜索关键词: 一种 in se 热电 材料 制备 方法
【主权项】:
一种In‑Se基热电材料的制备方法,其特征是:包括如下步骤:步骤1、采用熔炼法合成In‑Se材料:首先按照一定的配比称取原材料:铟粒或铟粉,以及硒粒或硒粉,然后将原材料放入经过清洗的石英管中,对石英管抽真空至10‑3torr以下,接着将石英管口进行密封,之后将石英管置于熔炼炉中,在580℃~900℃熔炼1小时~12小时,最后使石英管冷却至室温,石英管内的熔体凝成锭块;步骤2、采用区熔生长法制备In‑Se大块多晶材料:将步骤1得到的密封石英管放入区熔炉中,设定熔融温度为500℃~900℃;熔区宽度为5mm~30mm;生长速度为5mm/h~30mm/h,得到In‑Se大块多晶材料。
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