[发明专利]光刻设备和使用光刻设备制造器件的方法有效
| 申请号： | 201110052100.5 | 申请日： | 2011-03-02 |
| 公开（公告）号： | CN102193328A | 公开（公告）日： | 2011-09-21 |
| 发明（设计）人： | R·W·L·拉法瑞;M·瑞鹏;R·H·M·考蒂;R·J·梅杰尔斯;F·伊凡吉里斯塔 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻设备和使用光刻设备制造器件的方法。一种用于光刻设备的液体处理结构包括：液滴控制器，配置成允许浸没液体的液滴从所述结构损失且防止所述液滴与所限制的浸没液体的弯液面碰撞。液滴控制器可以包括气刀，所述气刀布置成交叠以阻挡进入的液滴。可以设置有与用于抽取穿过间隙的液体的气刀之间的间隙对齐的抽取孔。允许液滴穿过间隙逸出。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 使用 制造 器件 方法 | ||
【主权项】：
一种浸没式光刻设备，所述浸没式光刻设备包括：液体处理结构，所述液体处理结构配置成将浸没液体供给和限制至投影系统和正对表面之间的空间，所述正对表面包括台、或由所述台支撑的衬底、或所述台和所述衬底两者；和液滴控制器，所述液滴控制器在所述空间的径向向外位置上，配置成允许浸没液体的液滴从所述液滴控制器的径向向内位置穿过至所述液滴控制器的径向向外位置，和防止液滴从所述液滴控制器的径向向外位置到达所述液滴控制器的径向向内位置。
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