[发明专利]自动分析装置有效

专利信息
申请号: 201110053298.9 申请日: 2011-03-04
公开(公告)号: CN102192997A 公开(公告)日: 2011-09-21
发明(设计)人: 大沼武彦;杉村友弘 申请(专利权)人: 株式会社东芝;东芝医疗系统株式会社
主分类号: G01N35/10 分类号: G01N35/10
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 杨谦;胡建新
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 提供在不使清洗槽的构成变得复杂的情况下能够利用比较短的时间使液体不易附着在探头的阶梯部自动分析装置。下降控制部使上述探头从使上述阶梯部位于液体的液面位置的上方的规定位置,下降至使阶梯部位于液面位置的下方以便进行行对液体的吸取或者利用液体的清洗的各工作的工作位置。从工作位置至阶梯部刚要到达液面位置时的位置,上升控制部使探头以高速上升,然后直至阶梯部通过液面位置为止,使探头以比高速慢的低速上升,从阶梯部刚通过了液面位置至至规定位置,使探头以比低速快的高速上升。
搜索关键词: 自动 分析 装置
【主权项】:
一种自动分析装置,具有轴状探头,该轴状探头被设置成在试样、试剂或清洗水中的某一种液体的液面下与该液面上之间移动,用于将上述试样和上述试剂分注在反应容器中,并且该轴状探头通过上述清洗水清洗,该自动分析装置用于分析由所分注的上述试样和试剂生成的反应溶液的成分,其特征在于,上述探头在轴下部与轴上部之间具有外径发生变化而形成的阶梯部,该自动分析装置具有用于使上述探头下降的下降控制部、以及用于使上述探头上升的上升控制部,上述下降控制部使上述探头从使上述阶梯部位于上述液体的液面位置的上方的规定位置,下降至使上述阶梯部位于上述液面位置的下方以便进行对上述液体的吸取或者利用上述液体的清洗的工作位置,从上述工作位置至上述阶梯部刚要到达上述液面位置时的位置,上升控制部使上述探头以高速上升,然后直到上述阶梯部通过上述液面位置为止,上升控制部使上述探头以比上述高速慢的低速上升,从上述阶梯部刚通过了上述液面位置时的位置至上述规定位置,上升控制部使上述探头以比上述低速快的高速上升。
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