[发明专利]光隔离器及其加工方法无效

专利信息
申请号: 201110053335.6 申请日: 2011-03-04
公开(公告)号: CN102109687A 公开(公告)日: 2011-06-29
发明(设计)人: 延凤平;陶沛琳;李琦;冯亭;彭万敬;梁骁 申请(专利权)人: 北京交通大学
主分类号: G02F1/095 分类号: G02F1/095
代理公司: 北京市商泰律师事务所 11255 代理人: 毛燕生
地址: 100044 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种光隔离器及其加工方法。光隔离器包括输入光纤,起偏器,磁旋光器,检偏器和输出光纤5部分。其中起偏器、磁旋光器、检偏器集成于一块LiNbO3衬底上,起偏器和检偏器采用质子交换法在LiNbO3衬底上直接生成,且用于制作检偏器的LiNbO3衬底沿逆时针方向研磨并抛光成与制作起偏器及磁旋光器的LiNbO3衬底的上表面呈45度的平面。磁旋光器由沉积于LiNbO3衬底上的YIG晶体和被覆于其上的稀磁薄膜组成,磁旋光器使通过其的线偏振光的偏振方向沿逆时针方向旋转45°。这种集成的光隔离器具有体积小、成本低、可靠性高等特点。
搜索关键词: 隔离器 及其 加工 方法
【主权项】:
一种光隔离器,其特征在于,包括顺序连接的输入光纤、隔离器本体和输出光纤;其中,所述隔离器本体包括:LiNbO3晶体衬底、起偏器、磁旋光器和检偏器;并且,所述LiNbO3晶体衬底分为首段区、中间段区和尾段区;所述起偏器设置于所述LiNbO3晶体衬底的首段区所对应表面;所述磁旋光器设置于所述LiNbO3晶体衬底的中间段区所对应表面;包括在该段中间段区表面顺序沉积的YIG晶体和稀磁薄膜;所述检偏器设置于所述LiNbO3晶体衬底的尾段区所对应表面;并且所述LiNbO3晶体衬底的首段区所对应表面以及所述LiNbO3晶体衬底的中间段区所对应表面为同一表面,该表面与所述LiNbO3晶体衬底的尾段区所对应表面呈45°的夹角;且所述尾段区所对应的衬底表面沿逆时针方向研磨抛光形成。
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