[发明专利]抛光方法有效
| 申请号： | 201110054477.4 | 申请日： | 2011-03-07 |
| 公开（公告）号： | CN102672595A | 公开（公告）日： | 2012-09-19 |
| 发明（设计）人： | 蒋莉 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/02 | 分类号： | B24B37/02;H01L21/304 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 骆苏华 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种抛光方法，包括：每完成预定数量晶圆的抛光操作后，对固结磨料抛光垫的表面进行检测；获取检测所得到的所述固结磨料抛光垫上磨料块的检测数据，所述检测数据反映出所述磨料块的磨损状况；基于所述检测数据设定对应的抛光参数进行后续的抛光操作。本发明能够提高固结磨料抛光法进行抛光操作时的稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 方法 | ||
【主权项】：
一种抛光方法，其特征在于，包括：每完成预定数量晶圆的抛光操作后，对固结磨料抛光垫的表面进行检测；获取检测所得到的所述固结磨料抛光垫上磨料块的检测数据，所述检测数据反映出所述磨料块的磨损状况；基于所述检测数据设定对应的抛光参数进行后续的抛光操作。
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