[发明专利]层叠体、基板的制造方法、基板及半导体装置有效

专利信息
申请号: 201110056931.X 申请日: 2008-01-23
公开(公告)号: CN102176808A 公开(公告)日: 2011-09-07
发明(设计)人: 森本纯平;金田研一 申请(专利权)人: 住友电木株式会社
主分类号: H05K1/03 分类号: H05K1/03;H05K3/46;H01L21/48;H01L23/498;B32B15/08;B32B3/24
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人: 菅兴成;吴小瑛
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种层叠体(10),其具有树脂层(2)和金属层(3),该树脂层(2)内置有用纤维基材构成的芯部(1),该金属层(3)在上述树脂层的一个表面上接合,其中,上述纤维基材的厚度在25μm以下,上述金属层具有对应于在上述树脂层上形成的导通孔的开口部(31)。本发明还提供一种基板的制造方法,其包括用激光(9)照射上述的层叠体在上述树脂层上形成导通孔(23)的工序、在上述导通孔形成后从上述层叠体除去上述金属层的工序。本发明还提供一种基板(100),其通过上述制造方法制得。本发明还提供一种半导体装置(12),其是在上述的基板上搭载半导体元件(121)而成。
搜索关键词: 层叠 制造 方法 半导体 装置
【主权项】:
一种层叠体,其具有树脂层和金属层,该树脂层内置有用纤维基材构成的芯部,并且由含有重均分子量为500~4500的氰酸酯树脂的树脂组合物构成,该金属层在该树脂层的至少一个表面上接合,该纤维基材的厚度在25μm以下,该金属层具有对应于在该树脂层上形成的导通孔的开口部。
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