[发明专利]金属导线结构以及沟槽制造方法有效

专利信息
申请号: 201110059105.0 申请日: 2011-03-11
公开(公告)号: CN102683392B 公开(公告)日: 2017-02-22
发明(设计)人: 陈信琦;廖俊雄;赖育聪 申请(专利权)人: 联华电子股份有限公司
主分类号: H01L29/423 分类号: H01L29/423;H01L23/58;H01L21/336
代理公司: 北京市柳沈律师事务所11105 代理人: 陈小雯
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明公开一种金属导线结构以及沟槽制造方法,其中金属导线结构包含基板、目标层、沟槽以及导线。目标层位于基板上方;沟槽形成于目标层中,沟槽底部具有微沟槽且微沟槽的深度不大于50埃;导线镶嵌于沟槽中。
搜索关键词: 金属 导线 结构 以及 沟槽 制造 方法
【主权项】:
一种金属导线结构,其包含:基板;单一目标层,位于该基板上方;沟槽,形成于该单一目标层中,该沟槽底部位于该单一目标层之中且具有微沟槽,该沟槽与该微沟槽均为U型,该微沟槽的深度不大于50埃,并且该微沟槽的开口小于该沟槽的开口;以及导线,镶嵌于该沟槽中。
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