[发明专利]光刻设备和器件制造方法无效
| 申请号： | 201110059239.2 | 申请日： | 2011-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN102193330A | 公开（公告）日： | 2011-09-21 |
| 发明（设计）人： | A·J·登勃夫;L·夸迪伊;D·萨里 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻设备和一种器件制造方法。本发明还提供一种水平传感器，配置用于测量衬底的高度水平，所述水平传感器包括：投影单元，用于将测量束投影到衬底上；检测单元，用于接收在所述衬底上反射之后的所述测量束；处理单元，用于基于由所述检测单元接收的所述被反射的测量束来计算高度水平；其中，所述水平传感器还包括倾斜测量装置，其中所述倾斜测量装置被布置用于至少部分地接收所述被反射的测量束，并且被配置用于提供表示所述衬底相对于名义平面的倾斜的倾斜信号。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种水平传感器，配置用于测量衬底的高度水平，所述水平传感器包括：投影单元，用于将测量束投影到衬底上；检测单元，用于接收在所述衬底上反射之后的所述测量束；处理单元，用于基于由所述检测单元接收的所述被反射的测量束来测量高度水平；其中，所述水平传感器还包括倾斜测量装置，其中所述倾斜测量装置布置用于至少部分地接收所述被反射的测量束，并且配置用于提供表示所述衬底相对于名义平面的倾斜的倾斜信号。
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