[发明专利]石墨烯片插层化合物制备方法及原位显微拉曼表征系统无效
申请号: | 201110059829.5 | 申请日: | 2011-03-11 |
公开(公告)号: | CN102156116A | 公开(公告)日: | 2011-08-17 |
发明(设计)人: | 谭平恒;赵伟杰;韩文鹏;历巧巧;姬扬 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | G01N21/65 | 分类号: | G01N21/65;G01N1/38 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 周国城 |
地址: | 100083 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种石墨烯片插层化合物的制备方法及原位显微拉曼表征系统,制备方法包括将石墨烯片和三氯化铁分别放置于相互连接相通的玻璃管和比色皿,用分子泵将玻璃管和比色皿抽成真空后用酒精灯密封住,加热到340摄氏度并保持6至24小时,降温到常温。原位显微拉曼表征系统包括:内含石墨烯片和三氯化铁的密闭相通的玻璃管和比色皿;一激光器;一拉曼光谱仪;一加热台;一升降台;一平移台;两振镜。本发明提供的石墨烯片/三氯化铁插层化合物的制备方法简单实用,原位显微拉曼表征系统可用来原位表征石墨烯片/三氯化铁插层化合物的显微拉曼光谱,并能原位监测石墨烯片/三氯化铁插层化合物的形成情况。 | ||
搜索关键词: | 石墨 烯片插层 化合物 制备 方法 原位 显微 表征 系统 | ||
【主权项】:
一种石墨烯片插层化合物的制备方法,其特征在于,该方法包括:将石墨烯片放置在与玻璃管相连且相通的比色皿内;将三氯化铁放置在玻璃管内;利用分子泵将玻璃管和比色皿抽成真空,真空度优于10‑3托;将玻璃管用酒精灯加热密封;以及将玻璃管和比色皿加热到340摄氏度并保持6至24小时;然后降温到常温。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院半导体研究所,未经中国科学院半导体研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110059829.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。