[发明专利]一种多晶硅还原炉内衬涂层的制备方法有效
| 申请号： | 201110060199.3 | 申请日： | 2011-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN102674679B | 公开（公告）日： | 2018-12-11 |
| 发明（设计）人： | 胡倾宇 | 申请（专利权）人： | 胡倾宇 |
| 主分类号： | C03B33/03 | 分类号： | C03B33/03 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 110006 辽宁省沈阳*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种应用于多晶硅还原炉炉体内侧炉壁涂层(简称内衬涂层)的制备方法，具体的是改良西门子法多晶硅还原炉内衬防腐蚀红外反射涂层的制备方法。所述涂层系金属陶瓷材料，在改良西门子法多晶硅还原炉炉体内侧炉壁上直接涂敷。采用的涂敷方法为物理气相沉积法或者化学气相沉积法。所述多晶硅还原炉内衬涂层的厚度为1‑10微米，制造成本低，对炉壁的附着力强。该涂层耐高温，耐强酸强碱腐蚀，耐机械冲击和刮削，红外反射效率高，使用寿命长，可以有效降低改良西门子法多晶硅还原炉内热能向炉外传递的损失。该涂层取代纯金红外反射涂层，因而大大降低了涂层材料的费用，从而可以大幅降低改良西门子法制造多晶硅产品的成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 多晶 还原 内衬 涂层 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种多晶硅还原炉炉体内侧炉壁涂层的制备方法，特征在于：(1)是一种金属陶瓷涂层，或(2)是几层不同种类的金属陶瓷涂层的组合；所述金属陶瓷涂层包括氮化钛TiNx，碳化钛TiC，碳氮化钛TiCN和氮化铝AlN；所述金属陶瓷涂层由物理气相沉积(PVD)或者化学气相沉积(CVD)方法在300‑600℃之间的温度制备，金属陶瓷涂层总厚度为1至10微米。
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