[发明专利]喷墨涂敷装置以及方法有效

专利信息
申请号: 201110063887.5 申请日: 2011-03-17
公开(公告)号: CN102205707A 公开(公告)日: 2011-10-05
发明(设计)人: 真锅仁志;渡濑直树;岸村敏治;渡边胜义;中村秀男 申请(专利权)人: 株式会社日立工业设备技术
主分类号: B41J2/01 分类号: B41J2/01;B41J3/407
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 吕林红
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种喷墨涂敷装置和喷墨涂敷方法,防止真空吸引单元从涂敷头的喷嘴吸引出的UV硬化型涂敷材料由于UV光而硬化,防止由于真空吸引单元中的堵塞而产生吸引不良。将输送来的膜(1)吸附固定在吸附台(10)上而从涂敷头(15)涂敷UV硬化型涂敷材料(35),该涂敷的UV硬化型涂敷材料被照射来自与涂敷头一体的UV光源(20)的UV光(36)而硬化。在该吸附台的外侧,配置了真空吸引部(21),使涂敷头移动到该真空吸引部,从而通过该真空吸引部吸引涂敷头内的气泡等。在不进行所述涂敷头的吸引时,UV挡板(22)通过气缸(23)移动,而塞住该真空吸引部的吸引口。由此,真空吸引部内相对UV光被遮光。
搜索关键词: 喷墨 装置 以及 方法
【主权项】:
一种喷墨涂敷装置,包括:上游侧的导辊,卷出并输送辊状的膜;吸附台,吸附保持所卷出的该膜;涂敷头,在该吸附台上吸附保持的该膜表面上涂敷液状的UV硬化型涂敷材料;架子构造体,能够使该涂敷头在该膜的上方位置且在XY轴的平面内移动;Z轴驱动单元,能够使该涂敷头上下动作;以及紫外线光源,能够与该涂敷头一体地在XYZ轴方向上移动,所述喷墨涂敷装置的特征在于,具备:真空吸引单元,处于输送该膜的范围的外侧的位置,具有移动到该位置的该涂敷头下降而接触的吸入口,从该吸入口吸引该涂敷头的喷嘴;以及遮光单元,对从该紫外线光源向该真空吸引单元的内部入射的紫外线光进行遮蔽,其中,该喷墨涂敷装置构成为能够选择该真空吸引单元中的该紫外线光的遮蔽和该遮蔽的解除。
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