[发明专利]用于探询碳层厚度的方法和系统有效
| 申请号： | 201110065389.4 | 申请日： | 2011-03-11 |
| 公开（公告）号： | CN102221336A | 公开（公告）日： | 2011-10-19 |
| 发明（设计）人： | T·J·威利斯 | 申请（专利权）人： | 西部数据(弗里蒙特)公司 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人： | 赵蓉民 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明描述一种探询碳层厚度的方法和系统。碳层驻留在磁记录磁头和磁记录盘中的至少之一上。该方法和系统包括在碳层上设置增强膜。增强膜在碳层的一部分上是连续的。该方法和系统还包括将增强膜暴露于来自光源的光，以及检测来自碳层的散射光以提供表面增强拉曼光谱法(SERS)光谱。增强膜驻留在光源和碳层之间。该方法和系统还包括基于SERS光谱确定碳层的厚度。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 探询 厚度 方法 系统 | ||
【主权项】：
一种探询驻留在磁记录磁头和磁记录盘至少之一上的碳层的厚度的方法，所述方法包括：在所述碳层上设置增强膜，所述增强膜在所述碳层的一部分上连续；将所述增强膜暴露于来自光源的光，所述增强膜驻留在所述光源和所述碳层之间；检测来自所述碳层的散射光以提供表面增强拉曼光谱法光谱；以及基于所述表面增强拉曼光谱法光谱确定所述碳层的厚度。
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