[发明专利]阻抗匹配元件有效
申请号: | 201110066479.5 | 申请日: | 2011-03-18 |
公开(公告)号: | CN102480000A | 公开(公告)日: | 2012-05-30 |
发明(设计)人: | 刘若鹏;徐冠雄;季春霖;赵治亚;方能辉 | 申请(专利权)人: | 深圳光启高等理工研究院;深圳光启创新技术有限公司 |
主分类号: | H01Q15/00 | 分类号: | H01Q15/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518057 广东省深圳市南山区*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明实施例涉及一种阻抗匹配元件,设置于第一介质与第二介质之间,该元件由多个超材料片层沿垂直于片层表面方向堆叠形成,超材料片层包括基材和多个附着在基材上的人造微结构。基材分成若干晶格,人造微结构置于晶格中,每一晶格与其上的人造微结构构成一个单元格。该元件的单元格的阻抗沿片层堆叠方向连续变化,组成首位片层及末尾片层的各单元格的阻抗分别与首位片层及末尾片层各自相接触的第一介质或第二介质对应位置的阻抗相同。本发明实施例的阻抗匹配元件采用多个超材料片层堆叠形成一阻抗渐变层,该阻抗匹配元件设置于两介质间可消除介质分界面的阻抗突变,进而解决了电磁波在经过两介质分界面时发生反射而导致电磁波能量损耗的问题。 | ||
搜索关键词: | 阻抗匹配 元件 | ||
【主权项】:
一种阻抗匹配元件,设置于第一介质与第二介质之间,其特征在于,所述元件由多个相互平行的超材料片层沿垂直于所述片层表面的方向堆叠形成,所述超材料片层包括基材和多个附着在所述基材上的人造微结构,所述基材分成若干晶格,所述人造微结构置于所述晶格中,每一晶格与其上的人造微结构构成一个单元格,所述元件的单元格的阻抗沿片层堆叠方向呈连续变化,组成首位片层及末尾片层的各单元格的阻抗分别与首位片层及末尾片层各自相接触的第一介质或第二介质对应位置的阻抗相同。
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