[发明专利]多晶硅副产物四氯化硅处理设备有效
申请号: | 201110066588.7 | 申请日: | 2011-03-18 |
公开(公告)号: | CN102167333A | 公开(公告)日: | 2011-08-31 |
发明(设计)人: | 严大洲;毋克力;肖荣晖;汤传斌;谢正和;杜俊平;谢冬晖;汪绍芬;郭富东 | 申请(专利权)人: | 中国恩菲工程技术有限公司 |
主分类号: | C01B33/12 | 分类号: | C01B33/12;C01B7/01 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 宋合成 |
地址: | 100038*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开一种多晶硅副产物四氯化硅处理设备,包括反应器,收集冷却器,聚集器,分离器,和脱酸器,收集冷却器位于反应器下方以便冷却器进料口与反应器出口相连;聚集器入口与冷却器出料口相连;分离器具有分离器入口、气体出口和固体出口,分离器入口与聚集器出口相连;脱酸器的上部设有尾气出口和脱酸器出料口,脱酸器的下部设有蒸汽入口和脱酸器进料口,其中脱酸器进料口与分离器的固体出口相连。根据本发明的多晶硅副产物四氯化硅处理设备,可以用多晶硅副产物四氯化硅生产微米级二氧化硅,不但解决了副产物四氯化硅制约多晶硅生产,而且生产的微米级二氧化硅具有广泛的用途,提高了循环经济效果,并且结构和操作简单,成本低。 | ||
搜索关键词: | 多晶 副产物 氯化 处理 设备 | ||
【主权项】:
一种多晶硅副产物四氯化硅处理设备,其特征在于,包括:反应器,所述反应器具有内限定有反应腔,所述反应器的上部设有四氯化硅‑空气入口和氢气入口,所述反应器的下部设有环氢气进口且所述反应器的底部设有反应器出口;收集冷却器,所述收集冷却器内限定有内腔和套在内腔外面且与内腔隔开的冷却介质空间,所述收集冷却器的上部设有与所述内腔连通的冷却器进料口和与所述冷却介质空间连通的冷却介质出口,所述收集冷却器的下部设有与所述内腔连通的冷却器出料口和与所述冷却介质空间连通的冷却介质进口,其中所述收集冷却器位于所述反应器下方以便所述冷却器进料口与所述反应器出口相连;聚集器,所述聚集器具有聚集器入口和聚集器出口,其中所述聚集器入口与所述冷却器出料口相连;分离器,所述分离器具有分离器入口、气体出口和固体出口,其中所述分离器入口与所述聚集器出口相连;和脱酸器,所述脱酸器具有内限定有脱酸腔,所述脱酸器的上部设有尾气出口和脱酸器出料口,所述脱酸器的下部设有蒸汽入口和脱酸器进料口,其中所述脱酸器进料口与所述分离器的固体出口相连。
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