[发明专利]光刻胶显影工艺及其装置无效
| 申请号： | 201110066931.8 | 申请日： | 2011-03-18 |
| 公开（公告）号： | CN102109776A | 公开（公告）日： | 2011-06-29 |
| 发明（设计）人： | 金海涛;徐飞;王夏 | 申请（专利权）人： | 常州瑞择微电子科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/32 | 分类号： | G03F7/32;G03F7/30 |
| 代理公司： | 常州佰业腾飞专利代理事务所(普通合伙) 32231 | 代理人： | 朱小杰 |
| 地址： | 213022 江苏省常*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光刻工艺技术中显影工艺的新方法及其装置，属于微电子及微机电系统制造加工领域。目的是提供一种光刻胶显影工艺，进一步的目的在于提供一种能够使得光刻胶显影较为彻底、均匀的工艺，以及实现显影工艺的装置。一种光刻胶显影工艺，包括如下步骤：覆盖有曝光过的光刻胶的工件表面用纯水进行喷淋湿润；喷淋纯水转换成喷淋显影液；进行显影；喷淋纯水进行清洗；喷淋CO2离子化水进行清洗；工件旋转甩干，进行干燥。本发明的好处是在显影过程中，显影液与纯水的混合浓度实现在线配比，连续变化，能够达到良好的显影效果。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 显影 工艺 及其 装置 | ||
【主权项】：
一种光刻胶显影工艺，包括如下步骤：1)覆盖有曝光过的光刻胶的工件表面用纯水进行喷淋湿润；2)喷淋纯水转换成喷淋显影液；3)进行显影；4)喷淋纯水进行清洗；5)喷淋CO2离子化水进行清洗；6)工件旋转甩干，进行干燥。
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