[发明专利]喷墨记录设备有效
申请号: | 201110070983.2 | 申请日: | 2011-03-21 |
公开(公告)号: | CN102205711B | 公开(公告)日: | 2011-10-05 |
发明(设计)人: | 寺田宏平 | 申请(专利权)人: | 兄弟工业株式会社 |
主分类号: | B41J2/01 | 分类号: | B41J2/01 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 车文;张建涛 |
地址: | 日本爱知*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 提供一种喷墨记录设备,喷墨记录设备包括:喷墨头;第一滑架,在所述第一滑架上承载喷墨头;引导构件;移动机构,移动机构使第一滑架沿引导构件移动;输送机构,输送机构沿输送表面输送介质;以及第二滑架,第二滑架在跟随第一滑架的移动的同时能往复移动,并且第二滑架构造成能相对于第一滑架在与输送表面垂直的方向上相对移动。第二滑架具有保护喷射表面不受介质影响的保护构件和关于第三方向调节第二滑架的移动的调节构件。 | ||
搜索关键词: | 喷墨 记录 设备 | ||
【主权项】:
一种喷墨记录设备,所述喷墨记录设备将墨的液滴喷射到介质上以进行记录,所述喷墨记录设备包括:喷墨头,所述喷墨头具有喷射表面,在所述喷射表面上形成有多个喷嘴,通过所述多个喷嘴喷射墨;第一滑架,所述喷墨头安装在所述第一滑架上;引导构件,所述引导构件在与所述喷射表面平行的第一方向上延伸;移动机构,所述移动机构使所述第一滑架沿所述引导构件在所述第一方向上往复移动;输送机构,所述输送机构沿输送表面在与所述第一方向垂直的第二方向上输送所述介质,所述输送表面面对所述喷射表面且与所述第一方向平行;以及第二滑架,所述第二滑架在跟随所述第一滑架的移动的同时能在所述第一方向上往复移动,并且所述第二滑架能相对于所述第一滑架在与所述输送表面垂直的第三方向上相对移动,所述第二滑架包括:保护构件,所述保护构件布置在所述喷墨头的沿所述第一方向的一侧,以保护所述喷射表面不受所述介质的影响;以及调节构件,所述调节构件调节所述第二滑架在所述第三方向上的移动,使得所述保护构件的相对于所述输送表面设置的最接近部分在所述第三方向上同所述喷射表面相比总是较接近所述输送表面设置。
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