[发明专利]双喷嘴扫描斜喷式圆柱坯喷射成形装置无效
申请号: | 201110071431.3 | 申请日: | 2011-03-24 |
公开(公告)号: | CN102145387A | 公开(公告)日: | 2011-08-10 |
发明(设计)人: | 张豪;张捷 | 申请(专利权)人: | 江苏豪然喷射成形合金有限公司 |
主分类号: | B22F3/115 | 分类号: | B22F3/115 |
代理公司: | 镇江京科专利商标代理有限公司 32107 | 代理人: | 夏哲华 |
地址: | 212009 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及金属材料的制造设备,具体是一种双喷嘴扫描斜喷式圆柱坯喷射成形装置。该双喷嘴扫描斜喷式圆柱坯喷射成形装置包括有一个沉积室,沉积室顶部设置有用于储存液态金属的漏包和连接在漏包底部的雾化喷嘴,沉积室内设置有可旋转的沉积基底;所述沉积基底位于沉积室中心并且其转轴位于竖直方向,雾化喷嘴位于沉积基底侧上方;所述雾化喷嘴有两个,两个喷嘴与沉积基底的轴心线之间的距离不等。本发明的优点是:提高了整个系统的运行稳定性和成形质量,并且对沉积基底与圆柱坯的结合强度要求较底,有利于制造较大规格的锭坯;双雾化喷嘴可形成大直径的锭坯产品;可减少材料浪费、降低排气污染;有利于形成较佳的成形工艺条件。 | ||
搜索关键词: | 喷嘴 扫描 斜喷式 圆柱 喷射 成形 装置 | ||
【主权项】:
一种双喷嘴扫描斜喷式圆柱坯喷射成形装置,包括有一个沉积室(1),沉积室顶部设置有用于储存液态金属的漏包(2)和连接在漏包底部的雾化喷嘴(3),沉积室内设置有可旋转的沉积基底(4),其特征是:所述沉积基底位于沉积室中心并且其转轴位于竖直方向,雾化喷嘴(3)位于沉积基底侧上方;所述雾化喷嘴(3)有两个,两个喷嘴与沉积基底(4)的轴心线之间的距离不等。
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