[发明专利]照相机组件及其制造方法有效
申请号: | 201110072022.5 | 申请日: | 2011-03-18 |
公开(公告)号: | CN102279505A | 公开(公告)日: | 2011-12-14 |
发明(设计)人: | 山田学 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | G03B17/00 | 分类号: | G03B17/00;H04N5/335 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 周欣;陈建全 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种照相机组件及其制造方法,该照相机组件的制造方法具备:准备图像传感器的步骤;准备第1构件的步骤,所述第1构件具备第1非导体、覆盖第1非导体的第1金属膜、和覆盖第1金属膜的第1绝缘膜;准备第2构件的步骤,所述第2构件具备第2非导体、覆盖第2非导体的第2金属膜、和覆盖第2金属膜的第2绝缘膜;将第1构件配置在图像传感器上的步骤;将第2构件配置在第1构件上或者上方的步骤;对第1构件与第2构件之间或者图像传感器与第2构件之间施加规定的电压,使第1绝缘膜和第2绝缘膜中的至少一部分破坏的步骤。 | ||
搜索关键词: | 照相机 组件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种照相机组件的制造方法,其具备:准备图像传感器的步骤;准备第1构件的步骤,所述第1构件具备第1非导体、覆盖所述第1非导体的第1金属膜、和覆盖所述第1金属膜的第1绝缘膜;准备第2构件的步骤,所述第2构件具备第2非导体、覆盖所述第2非导体的第2金属膜、覆盖所述第2金属膜的第2绝缘膜;将所述第1构件配置在所述图像传感器上的步骤;将所述第2构件配置在所述第1构件上或者上方的步骤;和对所述第1构件与所述第2构件之间或者所述图像传感器与所述第2构件之间施加规定的电压,使所述第1绝缘膜和第2绝缘膜中的至少一部分破坏的步骤。
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