[发明专利]X射线衍射和计算机层析成像有效
申请号: | 201110072597.7 | 申请日: | 2011-02-16 |
公开(公告)号: | CN102253065A | 公开(公告)日: | 2011-11-23 |
发明(设计)人: | G·布拉吉 | 申请(专利权)人: | 帕纳科有限公司 |
主分类号: | G01N23/20 | 分类号: | G01N23/20;G01N23/04;G01V5/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 秦晨 |
地址: | 荷兰阿*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 本发明涉及一种成像系统及其操作方法。该成像系统组合CT和XRD测量,这两种测量都测量作为能量函数的XRD衍射和吸收。可以使用测角仪2、源4、以及二维检测器10。实施例使用在5~25keV范围内的相对软X射线。还描述了集成安将单元,用于将样品8靠近检测器10安装。 | ||
搜索关键词: | 射线 衍射 计算机 层析 成像 | ||
【主权项】:
一种成像系统,包括:X射线源,用与发射X射线束;二维X射线检测器;样品位置;测角仪,用于将X射线源、X射线检测器和样品位置处的样品相对于彼此定位;以及计算机,被布置为处理来自二维检测器的输入并基于来自二维检测器的输入以及X射线源、X射线检测器和样品的相对位置来输出关于样品的信息;以及其中,成像系统被布置为在实现样品上的角色散X射线衍射的X射线衍射模式,即XRD模式中操作,使用X射线检测器测量作为衍射角2θ函数的X射线衍射;并且成像系统被布置为在计算机层析成像模式,即CT模式中操作,使用二维X射线检测器测量作为穿过样品的位置的函数的样品吸收。
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