[发明专利]适用于精细雾化CMP的一种碱性二氧化硅抛光液无效
| 申请号： | 201110073546.6 | 申请日： | 2011-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN102174295A | 公开（公告）日： | 2011-09-07 |
| 发明（设计）人： | 李庆忠;翟靖 | 申请（专利权）人： | 江南大学 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09K3/14;H01L21/3105 |
| 代理公司： | 无锡华源专利事务所 32228 | 代理人： | 聂汉钦 |
| 地址： | 214122 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了适用于精细雾化CMP的一种碱性二氧化硅抛光液，其特征在于包括二氧化硅、氧化剂、表面活性剂，所述氧化剂为过氧化氢溶液，所述表面活性剂为聚乙二醇，所述二氧化硅的质量百分比为28%-32%，所述氧化剂的质量百分比为1%-3%，所述表面活性剂的质量百分比为1.5%-3.5%，所述二氧化硅包括硅溶胶和白碳黑，所述二氧化硅抛光液的pH值为9.5-11.5。本发明通过实验研究和分析，得到了适合雾化抛光工艺的SiO2抛光液。 | ||
| 搜索关键词： | 适用于 精细 雾化 cmp 一种 碱性 二氧化硅 抛光 | ||
【主权项】：
适用于精细雾化CMP的一种碱性二氧化硅抛光液，其特征在于：包括二氧化硅、氧化剂、表面活性剂，所述氧化剂为过氧化氢溶液，所述表面活性剂为聚乙二醇，所述二氧化硅的质量百分比为28%‑32%，所述氧化剂的质量百分比为1%‑3%，所述表面活性剂的质量百分比为1.5%‑3.5%，所述二氧化硅包括硅溶胶和白碳黑，所述SiO2抛光液的pH值为9.5‑11.5。
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