[发明专利]一种TiO2/SiO2复合薄膜的制备方法无效

专利信息
申请号: 201110075758.8 申请日: 2011-03-28
公开(公告)号: CN102162086A 公开(公告)日: 2011-08-24
发明(设计)人: 王顺利;李培刚;唐为华;朱晖文;刘洋溢 申请(专利权)人: 浙江理工大学
主分类号: C23C14/08 分类号: C23C14/08;C23C14/34
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 310018 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种无机材料二氧化钛/二氧化硅(TiO2/SiO2)的制备,尤其是TiO2/SiO2复合薄膜的制备方法。本发明是采用磁控溅射法,把TiO2/SiO2复合纳米粉末,碾磨、充分混合均匀;然后压制成固体靶材,而后热处理,即制得靶材;用石英玻璃为衬底,以较低功率对靶材预溅射,然后升高射频功率,待机器各方面参数稳定一段时间,打开样片挡板开始沉积薄膜,沉积一定时间,地石英玻璃衬底表面上一层透明且发亮的沉积物即为TiO2/SiO2复合薄膜。本发明的优点:工艺可控性强,易操作,成本低,制得的产物纯度高。本发明所制备的产品具有广泛的用途。
搜索关键词: 一种 tio sub sio 复合 薄膜 制备 方法
【主权项】:
一种TiO2/SiO2复合薄膜的制备方法,其特征是包括如下步骤:(1)按Si/Ti摩尔比为1∶1的量,称取TiO2/SiO2复合纳米粉末,用玛瑙碾钵碾磨使复合纳米粉末混合均匀;用压片机将TiO2/SiO2复合粉末压制成直径为50‑60mm的固体靶材,而后经580‑620℃热处理3h以上,即制得Si/Ti比为1/1靶材;(2)将干净的石英玻璃衬底固定在样品托上,关好各气阀后抽真空,直至真空度达到1.0×10‑4Pa以上,通入高纯气体氮气、氩气、或氦气,调节分子泵闸板阀,将气压调整到0.6Pa,打开射频源起辉,以小于60W的功率对靶材预溅射4‑5分钟,然后升高射频功率至150‑200W,打开样片挡板开始沉积薄膜,沉积时间为3小时以上,最后关射频源,停止起辉;即得石英玻璃衬底表面上的TiO2/SiO2复合薄膜。
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