[发明专利]共轭二烯系聚合物、共轭二烯系聚合物组合物以及共轭二烯系聚合物的制造方法无效
申请号: | 201110080472.9 | 申请日: | 2011-03-29 |
公开(公告)号: | CN102206304A | 公开(公告)日: | 2011-10-05 |
发明(设计)人: | 藤井彻;稻垣胜成 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社 |
主分类号: | C08F236/10 | 分类号: | C08F236/10;C08F230/08;C08L9/06;C08K13/02;C08K3/36;C08K3/04 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 蒋亭 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种可以得到耐磨损性优异的共轭二烯系聚合物组合物的共轭二烯系聚合物、及含有该共轭二烯系聚合物和增强剂的共轭二烯系聚合物组合物。一种共轭二烯系聚合物,其具有基于共轭二烯的结构单元和基于下述式(1)表示的化合物的结构单元。R1Si(-R2-A)mR33-m (1)(式中,m表示1~3范围内整数,R1表示具有聚合性碳-碳双键的烃基,R2表示亚烃基,存在多个R2时,多个R2可以相同也可以不同,A表示取代氨基,存在多个A时,多个A可以相同也可以不同,R3表示烃基、取代烃基或取代氨基,存在多个R3时,多个R3可以相同也可以不同。 | ||
搜索关键词: | 共轭 二烯系 聚合物 组合 以及 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种共轭二烯系聚合物,其具有基于共轭二烯的结构单元和基于下述式(1)表示的化合物的结构单元,R1Si(‑R2‑A)mR33‑m (1)式中,m表示1~3的整数,R1表示具有聚合性碳‑碳双键的烃基,R2表示亚烃基,存在多个R2时,多个R2相同或不同,A表示取代氨基,存在多个A时,多个A相同或不同,R3表示烃基、取代烃基或取代氨基,存在多个R3时,多个R3相同或不同。
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