[发明专利]一种接近接触式扫描曝光装置与方法有效
| 申请号： | 201110081464.6 | 申请日： | 2011-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN102736421A | 公开（公告）日： | 2012-10-17 |
| 发明（设计）人： | 张俊;陈勇辉 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明的一种接近接触式扫描曝光装置，沿光传播方向依序包括：照明系统，用以输出平行光；掩模，所述平行光照射所述掩模产生出射光输出；基底，位于所述掩模下方，经所述掩模出射的出射光入射至所述基底上；以及工件台，承载所述掩模和所述基底；当进行扫描曝光时，所述掩模和所述基底随所述工件台同步移动。本发明相对于传统对准式光刻机，尽管产率略为降低，但是提高了剂量均匀性(Dose Uniformity)，进而改善了线宽均匀性(CDU)；本发明与传统投影式光刻机相比，尽管精度没这么高，但是无投影物镜，降低了成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 接近 接触 扫描 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种接近接触式扫描曝光装置，沿光传播方向依序包括：照明系统，用以输出平行光；掩模，所述平行光照射所述掩模产生出射光输出；基底，位于所述掩模下方，经所述掩模出射的出射光入射至所述基底上；以及工件台，承载所述掩模和所述基底；当进行扫描曝光时，所述掩模和所述基底随所述工件台同步移动。
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