[发明专利]一种投影光刻物镜有效
| 申请号： | 201110081501.3 | 申请日： | 2011-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN102736221A | 公开（公告）日： | 2012-10-17 |
| 发明（设计）人： | 武珩;刘国淦 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G02B13/18 | 分类号： | G02B13/18;G02B13/22;G02B13/00;G02B1/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种投影光刻物镜，把物面的图像聚焦成像在像面上，从物面开始沿光轴依次包括：一具有正光焦度的第一透镜组G11；一具有负光焦度的第二透镜组G12；一具有正光焦度的第三透镜组G13；以及一具有负光焦度的第四透镜组G14；其中，所述透镜组G11、G12、G13、G14满足以下关系：0.09＜|f2/f1|＜0.25，0.09＜|f3/f4|＜0.25，0.90＜|f3/f2|＜1.1，其中：f1：第一透镜组G11的焦距；f2：第二透镜组G12的焦距；f3：第三透镜组G13的焦距；f4：第四透镜组G14的焦距。本发明以较少数量的镜片，不包含非球面的简单结构，能够实现所需的微米级的分辨率，并且校正同等视场范围内畸变、像散、色差，为物方及像方留有更大的工作距离。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 投影 光刻 物镜 | ||
【主权项】：
一种投影光刻物镜，把物面的图像聚焦成像在像面上，从物面开始沿光轴依次包括：一具有正光焦度的第一透镜组G11；一具有负光焦度的第二透镜组G12；一具有正光焦度的第三透镜组G13；以及一具有负光焦度的第四透镜组G14；其中，所述透镜组G11、G12、G13、G14满足以下关系： 0.09＜|f2/f1|＜0.25 0.09＜|f3/f4|＜0.25 0.90＜|f3/f2|＜1.1其中：f1：第一透镜组G11的焦距；f2：第二透镜组G12的焦距；f3：第三透镜组G13的焦距；f4：第四透镜组G14的焦距。
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