[发明专利]曝光机台及曝光机台中自由设定遮板的方法有效
| 申请号： | 201110082204.0 | 申请日： | 2011-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN102650831A | 公开（公告）日： | 2012-08-29 |
| 发明（设计）人： | 张力舟;徐先华 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 王莹 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及曝光机控制领域，提供了一种曝光机台及曝光机台中自由设定遮板的方法，通过将小型驱动单元作为目标标记遮板和间距测量窗口遮板的驱动，能够分别控制两种遮板在各方向上的遮挡区域，从而解决了以往光罩图案边缘设计必须完全服从于曝光机遮板单一遮挡距离的限制，实现了对光罩图案的精确控制，并可以在新的光罩开发设计时，将光罩的图案区域尽可能的向边缘延伸。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 机台 自由 设定 方法 | ||
【主权项】：
一种曝光机台，其特征在于，所述曝光机台包括：至少一个目标标记遮板(405)和至少一个间距测量窗口遮板(406)，用于在曝光时对光罩(402)上的相应部位进行遮挡；至少一个驱动装置，在所述驱动装置的驱动下，使得所述目标标记遮板(405)和所述间距测量窗口遮板(406)在各方向上运动。
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