[发明专利]气体进口分布器及在于多晶硅还原炉上的应用有效

专利信息
申请号: 201110085413.0 申请日: 2011-04-06
公开(公告)号: CN102198940A 公开(公告)日: 2011-09-28
发明(设计)人: 刘春江;赵丹;李雪;段长春;袁希钢 申请(专利权)人: 天津大学
主分类号: C01B33/03 分类号: C01B33/03
代理公司: 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 代理人: 王丽
地址: 300072 天*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明涉及气体进口分布器及在于多晶硅还原炉上的应用。按照分型面原理,首先将一级进气管一分为二,形成两个二级进气管;每个二级进气管进一步一分为二,形成四个三级进气管;以此类推,最终出现十六个结构对称、等价的五级进气管。将各个五级进气管分别连接到还原炉底盘上相应位置处的喷头上,向还原炉内喷射输入气体原料最后一级各个进气管出口的圆心分布在直径不等的两个同心圆周上,同一半径上的两个进气管是由同一个上级进气管分叉形成的。本发明开发的新型气体进口分布器可以保证在气相双组分非稳态进料状况下,多晶硅还原炉内宏观尺度和微观尺度上流场分布均匀,对于多晶硅生产过程中的节能降耗具有重要意义。
搜索关键词: 气体 进口 分布 在于 多晶 还原 应用
【主权项】:
一种气体进口分布器,其特征在于,首先将一级进气管一分为二,形成两个二级进气管;每个二级进气管进一步一分为二,形成四个三级进气管;以此类推,最终出现十六个结构对称、流体力学性能等价的五级进气管。
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