[发明专利]多鳍式静态随机存取存储器单元的布局有效
申请号: | 201110085963.2 | 申请日: | 2011-04-02 |
公开(公告)号: | CN102315213A | 公开(公告)日: | 2012-01-11 |
发明(设计)人: | 廖忠志;沈政忠 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02;H01L27/11;H01L23/52 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 张浴月;刘文意 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明提供一种多鳍式静态随机存取存储器(SRAM)单元的布局。该SRAM单元包括半导体基底上的多个鳍式有源区,其中鳍式有源区包括一对相邻且具有第一间隔的鳍式有源区以及与相邻鳍式有源区间具有第二间隔的一鳍式有源区,该第二间隔大于该第一间隔;多个鳍式场效应晶体管,其形成于鳍式有源区上,其配置为交叉耦合的第一和第二反相器以存储数据,以及存取数据的至少一端口;第一接触窗,其配置于第一和第二鳍式有源区之间并同时电气接触该第一和第二鳍式有源区;以及一第二接触窗,其配置于并电气接触第三鳍式有源区。本发明可缩减第一鳍式有源区的第一类型接触窗、第二鳍式有源区的第二类型接触窗以及SRAM单元面积,同时改进和保持SRAM单元的功能性和效能。 | ||
搜索关键词: | 多鳍式 静态 随机存取存储器 单元 布局 | ||
【主权项】:
一种静态随机存取存储器,即SRAM单元,包括:多个鳍式有源区,其形成于一半导体基底上,其中所述多个鳍式有源区包括第一鳍式有源区、第二鳍式有源区和第三鳍式有源区,其中该第一鳍式有源区和该第二鳍式有源区相邻并且具有一第一间隔,该第三鳍式有源区与相邻的鳍式有源区间具有一第二间隔,该第二间隔大于该第一间隔;多个鳍式场效应晶体管,即FinFET,其形成于所述多个鳍式有源区之上,其中所述多个鳍式场效应晶体管配置为构成交叉耦合的第一反相器和第二反相器以存储数据,以及存取数据的至少一端口;一第一接触窗,其配置于该第一鳍式有源区和该第二鳍式有源区之间并电气耦接至该第一鳍式有源区和该第二鳍式有源区;以及一第二接触窗,其配置于该第三鳍式有源区之上并电气耦接至该第三鳍式有源区。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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